EDI超純水系統(tǒng)是比較重要的超純水系統(tǒng)，而作為重要零部件的EDI更是在系統(tǒng)中承擔(dān)著重要的作用，這種技術(shù)的核心采用的是一種將離子交換技術(shù)，離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)，屬高科技綠色環(huán)保技術(shù)。

EDI超純水處理設(shè)備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守等優(yōu)點，已在制備純水的系統(tǒng)中逐步代替混床作為精處理設(shè)備使用。EDI超純水處理設(shè)備的環(huán)保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認(rèn)可，也愈來愈多廣泛地在醫(yī)藥、電子、電力、化工等行業(yè)得到推廣。

EDI超純水系統(tǒng)前處理工藝主要為超濾、三級反滲透、TOC 降解紫外燈和脫氣膜裝置，雖然在前置預(yù)處理中可以很好地杜絕大部分的雜質(zhì)進(jìn)入EDI中，但由各個單元部分并非完全的密封狀態(tài)，所以依然會有微生物進(jìn)入水中，而這部分微生物會不斷的累積在EDI表面，堵塞EDI離子交換通道，從而堵塞整個制水過程。同時在不同季節(jié)中，由于前置預(yù)處理部分會由溫度控制產(chǎn)水量，所以也會導(dǎo)致前置預(yù)處理能力下降，加重EDI水處理負(fù)擔(dān)，從而更容易的堵塞EDI離子交換通道，導(dǎo)致EDI各項運行指標(biāo)下降，降低了最終的產(chǎn)水水質(zhì)

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為了保證EDI產(chǎn)生性能的穩(wěn)定，通過對EDI裝置的研究與各種科學(xué)文獻(xiàn)的結(jié)果，滲源科技有限公司摸索出適合于不同系統(tǒng)的EDI清洗方案，而根據(jù)不同企業(yè)的需求性和功能性不同，EDI清洗方案會隨之改變，一般EDI清洗約為一年左右的時間，這時候只要不是用水非常大量的情況，都不會出現(xiàn)嚴(yán)重的水質(zhì)下降情況，可以很好地保證水質(zhì)情況。

該方案主要使用用酸性清洗、堿性清洗和滅菌維護逐步進(jìn)行。酸性清洗的藥劑主要選用鹽酸用于清洗濃水道、極水道的碳酸鹽垢、硫酸鈣、金屬氧化物和鐵鋁膠體等，堿性清洗的藥劑主要選用固體 NaOH，主要用于清洗淡水道的有機物、膠體污染等，滅菌過程選用的藥劑是殺菌劑，殺菌劑需要選擇對膜表面無氧化反應(yīng)的殺菌劑。

清洗注意事項：

1、清洗過程中要將清洗藥液溫度盡可能控制在 30 攝氏度左右，因為藥液溫度過低或過高均不利于提升清洗效果。

2、直通清洗和循環(huán)清洗過程均采用藥液小流量、低壓力方式進(jìn)行，以避免對 EDI 裝置使用壽命造成影響。

3、每完成一項清洗步驟，務(wù)必用二級反滲透產(chǎn)水沖洗清洗水箱，系統(tǒng)管路及 EDI 內(nèi)部，才可進(jìn)行下一步清洗步驟，避免酸、堿在 EDI 裝置內(nèi)部混和。

4、EDI 清洗藥品純度要求高袁 最好為分析級，如采用雜質(zhì)較高的藥品或不明來源的藥品， 會對純水系統(tǒng)及 EDI 裝置造成污染影響水質(zhì)，尤其對于用在微電子行業(yè)的超純水系統(tǒng)，在使用清洗 EDI 的相關(guān)藥品時必須更加注意。

5、滅菌過程最好采用無殘留的非氧化型殺菌劑，避免氧化劑對 EDI 內(nèi)部樹脂及半透膜產(chǎn)生降解作用，縮短 EDI 使用壽命。

6、EDI系統(tǒng)化學(xué)清洗后還不能直接投入運行，因為化學(xué)清洗及滅菌會破壞EDI內(nèi)部離子交換樹脂帶電電荷平衡，使裝置清洗完成后初始運行產(chǎn)水達(dá)不到合格標(biāo)準(zhǔn)，需要通過對EDI帶電一段時間使離子交換樹脂在電場的作用下再生，EDI電再生前要確認(rèn)調(diào)整EDI的運行壓力和流量至清洗前的正常狀態(tài)后，并將EDI產(chǎn)水回流至二級反滲透產(chǎn)水箱以便節(jié)水對整流器送電開始再生，每模塊運行電流最好控制在2.5 A電壓100 V左右，通過重新再生袁產(chǎn)水電阻率約4 h后可以提高至1 MΩcm約30 h產(chǎn)水電阻率可提升至17 MΩcm以上。

在EDI超純水系統(tǒng)中，EDI的清洗并不是決定水質(zhì)好壞的標(biāo)準(zhǔn)，假如前置預(yù)處理部分不行，對于EDI裝置的損耗也會很大，這樣也會導(dǎo)致EDI設(shè)備出現(xiàn)問題，導(dǎo)致最終水質(zhì)不行，所以我們在設(shè)計EDI超純水系統(tǒng)時，就需要對每一個單元要有清晰的認(rèn)知，才能使得最終的效果達(dá)到最好。

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