半導(dǎo)體超純水設(shè)備

型號(hào)：半導(dǎo)體超純水設(shè)備
電壓：220V
特點(diǎn)：可生產(chǎn)三級(jí)水
應(yīng)用：半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室

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半導(dǎo)體行業(yè)超純水

半導(dǎo)體行業(yè)超純水設(shè)備使用的是微電腦+觸摸屏控制技術(shù)，搭配高效的自動(dòng)化控制系統(tǒng)，有效的保障了設(shè)備的穩(wěn)定性，而且極大程度的節(jié)約了人力成本和維護(hù)成本，水資源的利用率得到了有效的提高，設(shè)備運(yùn)行過(guò)程的可靠性高，操作簡(jiǎn)單易懂。這款設(shè)備相較于其它同類型產(chǎn)品，具有更高的性價(jià)比，是值得選擇的半導(dǎo)體行業(yè)超純水設(shè)備。

制備工藝：

1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)
3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) (≥15MΩ.CM)

設(shè)備特點(diǎn)：

設(shè)備可接入國(guó)家自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水，并增加石英砂過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器、鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等四級(jí)預(yù)處理，另有RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)和EDI離子交換技術(shù)，有效的延長(zhǎng)了設(shè)備的使用壽命，降低了人工的操作復(fù)雜度和維護(hù)工作量等。系統(tǒng)水箱處設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵處設(shè)有壓力保護(hù)裝置并配備在線水質(zhì)監(jiān)測(cè)控制儀器，讓設(shè)備的自動(dòng)化得到極大的提高。設(shè)備的選材方面，公司可按照客戶對(duì)于水質(zhì)的要求進(jìn)行特殊定制，既能保證用水水質(zhì)達(dá)標(biāo)，同時(shí)降低了所需成本。

適用領(lǐng)域：

1.電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
2.電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
3.顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水
4.黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水
5.液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液
6.晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
7.集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
8.半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路
9.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
10.高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)
11.半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗
12.超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料

水質(zhì)用水標(biāo)準(zhǔn)：符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)